第321章 怒吼的学术权威
顾所长同意对重光公开全所员工档案，并召开全体员工大会，这让胡一亭感到满意，于是接下来大家继续讨论晶圆厂的设备和214所的技术储备。顾所长身边已经渐渐聚集了一批所里的工程师们，足有十五、六人之多，都好奇地打量着胡一亭和康耀祥，认真地听他们说什么。
康耀祥毫不怯场，站在无尘车间的走廊里，隔着墙玻璃指着厂房里的光刻机道：“作为试验线，1.5微米还是保守了。
现在成都光机所已经拿出了0.8微米分步重复投影光刻机，今年1月份以工艺流片成功率80%以上的好成绩通过了国家验收，目前正在北都微电子中心进行设备的安装调试。
按照计划，他们打算今年年底之前，大概11月12月的样子，就可以开始进行国产设备的‘0.8微米CMOS全套工艺’的工艺考核，预计半年之内可以见分晓。
到时候咱们国家就算是正式拥有了属于自己的0.8微米制程全套生产设备和制造工艺了！我看这次考核一定能通过！原因很简单，目前0.8微米制程工艺已经在微电子所实现了高良品率的实验通过，而且这段时间经过908华晶工程的检验，完全可以满足高良品率的生产制造任务！
华晶厂目前以0.8微米制程工艺生产我们重光的CMP1J1芯片，良品率已经超过了70%，并且还把一微米制程的游影霸王芯片成功移植到了0.8微米制程上，达到了60%以上的良品率。
所以乐观地说，我国目前基本上是已经掌握了了0.8微米制程工艺和设备制造的自主技术，唯独欠缺的是0.8微米制程下的IC设计能力，这方面国内也只有我们重光一家有着深厚的功底和成功经验，毕竟目前可供使用的试验线实在太少了，屈指可数的那几家IC设计单位，也都没有很强的工艺储备，研发经验比起国外公司差的太多。
我们重光要保持领先优势，就必须继续在新工艺上持续研发，不能满足于0.8微米制程的设计，还要为将来的0.35微米制程工艺储备技术和试验参数。
所以胡总和我商量之后，决定把你们214所这条线进行技术改进，打算向中科院光电技术研究所也就是成都光机所下订单，与北都微电子中心同步安装他们的0.8-1微米分步重复投影光刻机。”
顾所长闻言赞道：“我知道你们重光公司是国内唯一一家有0.8微米集成电路设计技术的企业，你们能把所里的这个晶圆厂提升到什么程度，我们也很好奇啊，你们打算怎么搞，能说说嘛？呵呵呵，要是方便的话。”
214所的工程师们也都点头，很想知道重光打算怎么改造这条线路。
胡一亭见在场的都是工程师，于是便坦诚相告道：“我们打算从长春光机所订一套高参数标准的物镜，缩小倍率大约是八倍到十倍，用来替换成都光机所这款光刻机上的五倍物镜。
当然这个花费很大，不过目前我已经有了新物镜的初步设计方案，等我把设计思路大体搞出来以后，就派人去和长光所谈，不管多少钱，总要不惜代价的把东西做出来。
当然，换了物镜之后，良品率肯定是不能保证了，但既然是试验线路，也不在乎这个问题。
另外提升制程的办法还有很多，比如控制光刻胶的厚度，或者用流明度更高的进口胶代替国产胶，再比如设计更精准的步进电机以改善套刻精度，或者干脆缩小像场尺寸，等等等等，手段五花八门，反正这里大家都是内行，应该对这些都不陌生吧。”
有工程师道：“胡总你年纪轻轻，但一听你说话，我就知道你是内行，真不简单啊！你真的才17岁吗？”
“哈哈哈……”
此言一出，车间走廊里立刻响起了一片善意的笑声。
胡一亭笑道：“我是天才嘛，这一点江水书记都承认，你们还信不过我吗？我解的庞加莱猜想你们看过吗？觉得怎么样？”
有工程师道：“胡总工你好，我叫奚龙山，我看过你的庞加莱猜想，不过看了一半就看不懂了，很惭愧啊，但我相信你是天才，真的！你很了不起！”
胡一亭问：“奚工你留不留下？”
奚龙山道：“我本来是想去庐州的，毕竟是省会大城市嘛，但看了你的《庞加莱猜想暨几何化猜想的完全证明》之后，我还是挺心动的，觉得你们重光是有很强的核心技术的，毕竟你们设计的几款芯片和程控机名气现在都很大，所以我主动申请留下来了。”
胡一亭和康耀祥几乎同时道：“欢迎你加入重光！”
奚龙山仿佛要考考胡一亭和康耀祥，问道：“胡总工，康总工，我们这套光刻机也是成光所的，自从把线宽从3微米调整到了1.5微米之后，透镜的发热问题就很严重了，你们将来要把五倍物镜换成8到10倍，那你们打算怎么解决曝光能量的发热问题，发热后引起镜头变形和偏焦，长时间这么干，那可要把设备毁了的。”
听到奚龙山发难，立刻有同事也参与进来：“胡工康工你们好，我叫王选玉，也是214所的高级工程师，我想请问你们有什么办法解决光刻胶引起的显影缺陷吗？目前国内工艺里的光刻胶清洗中，残胶问题很突出，导致下一工序中的重复投影出现图形失效的问题很严重，对良品率影响很大，你们的实验线有没有打算对这一问题进行改进？”
顾峡生一看这阵仗吓了一跳，心说这不是为难人家嘛，这个胡一亭数学水平再高，也对付不了你们这群术业有专攻的高工啊！高级工程师可是副教授级别，研究员级高级工程师是正教授级别。好家伙，这一群人里倒有一半是正教授，剩下一半副教授，你们一人问一个问题，这胡总就是有三头六臂也答不上来吧！他虽然是世界级数学天才，又精通IC设计，但怎么说也不可能对工艺制程了解的像你们这么深啊！
“大家都别为难胡总和康总了，这些技术问题是所有晶圆厂的通病，你们这样问，让康总和胡总怎么回答嘛！”
康耀祥也讪讪地笑着，心说这还真不好回答，毕竟每个厂都有自己的工艺，解决问题的办法各不相同，真要笼统的回答，未免要被大家瞧不起，但若不结合具体问题来谈，那这个问题就没了边际，说到明天早上也说不完啊。
正当康耀祥犹豫着怎么说才合适的时候，胡一亭却很认真地开了口。
“这有什么难的，光刻机镜头是个大型组合镜头，光是镜片就有十几二十片，套筒一个接一个，想要完全避免几何畸变是不可能的，这个问题无论哪家光刻机厂商都有。
作为照明源的高压汞灯能量很高，曝光时的快门速度只有零点几秒，自然是会导致镜头组件出现瞬间加热又瞬间冷却的几何畸变，但这些都是工程上的问题，我们做制程的不要去过多的考虑，不要去抱怨机子不如外国人的问题，要是机子和外国人一样好了，还要我们干什么！
我们要知道，制程工艺里是允许几何畸变的，甚至要利用几何畸变，首先我们要摸清畸变的像场特征，从而在镜头对焦时寻找畸变误差最小的对位点，这既要求我们一次次的实验，寻找每个镜头的畸变像场特征，也要改进我们的硅片定位系统，改进激光干涉仪的精度，确保畸变可控。
我就只说这么一个思路吧，再多的我就不说了，都是技术机密。
至于光刻胶残留造成的显影缺陷，那就更容易解决了，我再说一遍我们是搞制程的，不是搞化学的，光刻胶今后再怎么进化，用聚乙烯醇肉桂酸脂也好，环氧橡胶双叠氮也好，酚醛树脂重氮萘脂也好，那都是化工企业的问题，他们厂家怎么改进配方，那都不是我们要关心的问题。
为了彻底脱胶，我的思路是上双层胶，降低胶膜对光源的反射，也就是目前国际上刚提出来的用抗反射剂来解决胶体残留影响曝光的思路，其中一层胶体在曝光下分解酸性气体，可以彻底清除残胶，解决残胶影响曝光的问题，从而解决显影缺陷。
好吧，我就说这么多吧，至于具体的双胶工艺如何做，那都是技术机密，我不能说。
总之突破这两个工艺之后，制程技术直上50纳米不成问题！今后我们重光的制程技术攻关就在这两点上！！！”
要知道，胡一亭在跳槽华创担纲天思930芯片研发总设计师之前，他在浦海微电子装备集团就是专门负责集成电路生产设备的制造与生产工艺流程结合，负责为光刻机等先进制程设备与具体IC生产工艺融合而设计最佳方案的！若论对于晶圆厂制程工艺的了解，他算是1996年地球上排名第一的学术权威。
他刚才这番话完全是按照世界制程工艺未来的技术路线在阐述，可谓是高屋建瓴般的技术见解，好比天水顺着屋脊瓦当流下来那么势不可挡！
这年头国内的制程工艺比起西方来还差得远，西方对华的技术封锁造成了国内在这方面有大量技术空白。
对于在场的工程师们来说，胡一亭的话就像飞流直下三千尺的瀑布一样具有冲击力，听在耳朵里简直就像是晴天霹雳，大家觉得胡一亭的路子实在是邪门！实在是野！但似乎又充满了让人浑身起鸡皮疙瘩的灵感！就好像在大家的眼前打开了一闪光芒四射的大门！门后是堆积如山的奇珍异宝正在烁烁发光！
胡一亭低着头说完之后，抬起头来，见所有人都在激动而不安地注视着他。
以为大家不相信自己的胡一亭开始恼火，扬声大吼道：
“怎么啦？我说错啦？谁不服站出来说说你的解决方案！
你们啊！图样图森破！
我胡一亭是不可能错的！
只要你们跟着我干！0.35微米那就是小菜一碟！
50纳米……指日可待！！！”
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